日本HEPHAIST精工株式會社生產(chǎn)UVW,XYZ,XYR,XYRZ,等工作臺，同時兼容超薄型簡單構(gòu)造和高剛性在同一平面上配置三個執(zhí)行器，實現(xiàn)了超薄型簡單構(gòu)造。此外，“預(yù)壓式雙滑動構(gòu)造(已取得專利) ”對推力(垂直方向負(fù)荷)剛性、力矩負(fù)荷很強，防止由于偏負(fù)荷造成的臺面變形和隆起。 高精度的定位 “預(yù)壓式雙滑動”承載負(fù)荷，執(zhí)行器不直接承載負(fù)荷。因此可以得到不受負(fù)荷變化影響的穩(wěn)定的精度。 自由設(shè)定旋轉(zhuǎn)中心，可以以任意坐標(biāo)點為中心使工作臺旋轉(zhuǎn)。
適用場合：半導(dǎo)體制造設(shè)備、檢測設(shè)備、LCD、PDP、絲網(wǎng)印刷機、PCB印刷，液晶顯示器設(shè)備，激光設(shè)備等
NAF3工作臺（標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品）
超薄結(jié)構(gòu)
結(jié)構(gòu)圖
同時兼容超薄型簡單構(gòu)造和高剛性在同一平面上配置三個執(zhí)行器，實現(xiàn)了超薄型簡單構(gòu)造。此外，“預(yù)壓式雙滑動構(gòu)造(已取得專利) ”對推力(垂直方向負(fù)荷)剛性、力矩負(fù)荷很強，防止由于偏負(fù)荷造成的臺面變形和隆起。 高精度的定位 “預(yù)壓式雙滑動”承載負(fù)荷，執(zhí)行器不直接承載負(fù)荷。因此可以得到不受負(fù)荷變化影響的穩(wěn)定的精度。 自由設(shè)定旋轉(zhuǎn)中心臺面，可以以任意坐標(biāo)點為中心使臺面旋轉(zhuǎn)。
動作原理
同一平面上に配置した3つのアクチュエータを各々動作させることにより、様々なテーブル動作が可能になります。
製品仕様
| |
項目 |
NAF3C-10 |
NAF3C-16
(短納期対応可) |
NEW
NAF3C-20 |
| 機械仕様 |
ストローク |
X軸:±2mm
Y軸:±2mm
θ軸:±2° |
X軸:±3mm
Y軸:±3mm
θ軸:±3° |
X軸:±3mm
Y軸:±3mm
θ軸:±3° |
| テーブルサイズ |
100mm x 100mm |
160mm x 160mm |
200mm×200mm |
| ベースサイズ |
120mm x 120mm |
170mm x 170mm |
220mm x 220mm |
| 高さ |
35mm |
45mm |
65mm |
| モータ |
ステッピングモータ
（□20mm） |
ステッピングモータ
（□24mm） |
ステッピングモータ
（口42mm） |
| ステージ材質(zhì) |
鉄-低溫黒色クロム処理
アルミ-黒アルマイト処理 |
| 質(zhì)量 |
2.2kg |
6kg |
14kg |
精度
仕様 |
分解能(出荷時設(shè)定) |
0.2μm/pulse |
| 繰返し位置決め精度 |
±1.0μｍ以內(nèi) |
±0.7μｍ以內(nèi) |
±1μｍ以內(nèi) |
| ロストモーション |
3.0μｍ以內(nèi) |
2.0μｍ以內(nèi) |
2.0μｍ以內(nèi) |
靜止時負(fù)荷容量
(垂直方向等分布荷重) |
50Ｎ |
500Ｎ |
1000Ｎ |
移動時負(fù)荷容量
(垂直方向等分布荷重) |
10Ｎ |
100Ｎ |
200Ｎ |
| 平行度 |
30μm |
|
項目 |
NEW
NAF3C-30 |
NAF3C-40 |
機械
仕様 |
ストローク |
X軸:±3mm
Y軸:±3mm
θ軸:±3° |
X軸:±3mm
Y軸:±3mm
θ軸:±3° |
| テーブルサイズ |
300mm x 300mm |
400mm×400mm |
| ベースサイズ |
320mm x 320mm |
400mm x 400mm |
| 高さ |
70mm |
80mm |
| モータ |
ステッピングモータ
（□42mm） |
サーボモータ
（50W） |
| ステージ材質(zhì) |
鉄-低溫黒色クロム処理
アルミ-黒アルマイト処理 |
| 質(zhì)量 |
44kg |
60kg |
精度
仕様 |
分解能(出荷時設(shè)定) |
0.2μm/pulse |
0.1μm/pulse |
| 繰返し位置決め精度 |
±1μｍ以內(nèi) |
±0.7μｍ以內(nèi) |
| ロストモーション |
2.0μｍ以內(nèi) |
靜止時負(fù)荷容量
(垂直方向等分布荷重) |
2000Ｎ |
3000Ｎ |
移動時負(fù)荷容量
(垂直方向等分布荷重) |
400Ｎ |
500Ｎ |
| 平行度 |
30μm |
